Quality Level
assay
98%
form
liquid
refractive index
n20/D 1.471 (lit.)
bp
105-107 °C/2 mmHg (lit.)
density
1.259 g/mL at 25 °C (lit.)
SMILES string
ClC(=O)CCCCC(Cl)=O
InChI
1S/C6H8Cl2O2/c7-5(9)3-1-2-4-6(8)10/h1-4H2
InChI key
PWAXUOGZOSVGBO-UHFFFAOYSA-N
General description
己二醯氯属于酸氯类单体。它常用于合成尼龙66，这是一种表现出优异机械强度、化学抗性和耐热性的聚酰胺。它广泛用于生产纤维、纺织品、地毯和工程塑料。它还可以用于合成生物相容性和可生物降解聚合物，如聚酯。这些聚合物可应用于药物输送系统、组织工程、反渗透膜、薄膜和医疗植入物等领域。
Application
己二醯氯可用作：
- 偶联剂，用于PEG-PLA-PEG三嵌段共聚物的合成，能够形成独特的聚合物结构，在药物输送系统、组织工程和可控释放系统等领域具有潜在应用。
- 交联剂，用于从单木质醇基酯二聚体合成可生物降解的芳香族-脂肪族聚（酯-酰胺）。这些聚合物具有优异的机械强度、生物降解性和热稳定性等有利特性，因此适合包括可控药物输送系统和环保包装材料在内的多种应用。
- 用于制备联苯封端液晶。
Other Notes
储存时颜色可能变深
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signalword
Danger
hcodes
Hazard Classifications
Skin Corr. 1B
存储类别
8A - Combustible corrosive hazardous materials
wgk
WGK 3
flash_point_f
233.6 °F - closed cup
flash_point_c
112 °C - closed cup
ppe
Faceshields, Gloves, Goggles, type ABEK (EN14387) respirator filter
法规信息
危险化学品
此项目有
商品
近十年来出现了原子层沉积（ALD）技术以满足各种需求，包括半导体器件小型化、多孔结构上的保形沉积和纳米颗粒涂层。ALD基于两个相继的自限性表面反应。
Atomic layer deposition meets various needs including semiconductor device miniaturization and nanoparticle coating.