跳转至内容
Merck
CN

主要文件

查看所有文档

N7524

双(环戊二烯)镍(II)

别名:

二茂镍, 双(氯茂基)镍(II)

登录 查看组织和合同定价。

选择尺寸

变更视图

关于此项目

线性分子式:
Ni(C5H5)2
化学文摘社编号:
1271-28-9
分子量:
188.88
NACRES:
NA.23
PubChem Substance ID:
24897832
UNSPSC Code:
12352103
EC Number:
215-039-0
MDL number:
MFCD00001441
技术服务
需要帮助？我们经验丰富的科学家团队随时乐意为您服务。
让我们为您提供帮助

form

solid

Quality Level

100

composition

Ni, 20.0-31.5% EDTA titration

reaction suitability

core: nickel, reagent type: catalyst

mp

171-173 °C (lit.)

SMILES string

[Ni].[CH]1[CH][CH][CH][CH]1.[CH]2[CH][CH][CH][CH]2

InChI

1S/2C5H5.Ni/c2*1-2-4-5-3-1;/h2*1-5H;

InChI key

FOOKRXHSBKEWSE-UHFFFAOYSA-N

Application

该金属烷基可用于合成杂化有机-无机聚合物分子层沉积（MLD）。双（环戊二烯基）镍（Cp 2 Ni）可以用作 NiO 前体，用于 NiO/碳纳米管杂化物的原子层沉积（ALD）。

signalword

Danger

Hazard Classifications

Acute Tox. 4 Oral - Carc. 1A - Flam. Sol. 1 - Skin Sens. 1

存储类别

4.1B - Flammable solid hazardous materials

wgk

WGK 3

flash_point_f

Not applicable

flash_point_c

Not applicable

ppe

Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges

历史批次信息供参考:

分析证书(COA)

Lot/Batch Number

It looks like we've run into a problem, but you can still download Certificates of Analysis from our 文件 section.

如需帮助，请联系 客户支持

已有该产品？

在文件库中查找您最近购买产品的文档。

访问文档库

商品

有机和有机无机杂化聚合物的分子层沉积

近十年来出现了原子层沉积（ALD）技术以满足各种需求，包括半导体器件小型化、多孔结构上的保形沉积和纳米颗粒涂层。ALD基于两个相继的自限性表面反应。

Progress in Spintronic Materials

Spintronics offer breakthroughs over conventional memory/logic devices with lower power, leakage, saturation, and complexity.

Molecular Layer Deposition of Polymers

Atomic layer deposition meets various needs including semiconductor device miniaturization and nanoparticle coating.